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第562章 全新挑战

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     面前摊开着厚厚的原厂手册和打印的英文技术文献,眼神里带着审视和尚未消散的抵触。
    另一边则是周文兵领衔的老师傅和技术部骨干王晓军等人,穿着工装,面前摆着各种手写笔记、现场记录的参数曲线图。
    还有那本被翻得卷了边的《国产半导体设备及材料特性偏差数据库》。
    空气里弥漫着无声的角力。
    陈哲率先发难,语气竭力保持着专业性的平静:“秦总,周师傅提出的‘预氧化钝化’方案,虽然解决了眼前这批硅片的表面污染问题,但我们必须看到其潜在风险。”
    他用激光笔指向投影幕布,上面是复杂的清洗和氧化化学反应方程式。
    “这种非标的、低浓度的预氧化处理,本质上是在硅片表面引入了一层成分复杂、厚度不均的非晶态氧化层。
    它的存在,会直接干扰后续标准热氧化工艺的动力学过程,影响最终栅氧层的质量和均匀性!
    手册之所以没有这个步骤,正是因为其引入的变量难以预测和控制!
    我们目前看到的表面洁净只是表象,深层隐患巨大!”
    他顿了顿,目光扫过周文兵,“工艺的严谨性和可重复性,是芯片制造的生命线。
    我们不能因为一次偶然的成功,就引入可能导致系统性风险的非标操作。”
    “偶然?隐患?”周文兵“啪”地一声合上他那本卷边的数据库,嗓门洪亮。
    “陈工,你口口声声说手册,说标准!那我问你,手册上写的清洗药水浓度,是按什么硅片定的?是按咱手里这批国产娃的‘皮’定的吗?不是!
    它那是按外国娃的‘皮’定的!”他粗糙的手指用力点着摊开的数据库上关于国产硅片表面特性的条目,“这上面写得清清楚楚!国产高阻硅片,表面钝化层致密性批次差异大,某些批次易吸附有机污染物形成弱疏水层!
    你那标准‘猛药’,对付自家娃是正好,对付咱这‘水土不服’的娃,那就是药不对症!洗狠了反而伤了根!
    咱这‘预钝化’,不是瞎搞,是给娃先垫巴点‘养胃粥’,让它能受得住你那‘猛药’!
    这道理,跟王院士这书上说的‘材料缺陷针对性补偿’,一个意思!”他翻到案例集里一个类似的处理记录。
    “看看!北光所那边,三年前就遇到过类似问题!人家也是加了道温和的预处理!这叫啥?这就叫看菜下饭!”
    王晓军立刻补充,将笔记本电脑屏幕转向众人,上面是复杂的对比曲线图:“陈工,请看数据。这是我们对比实验的结果。
    左侧是单纯按手册标准流程处理的硅片,表面残留物图谱显示明显的有机污染峰,对应后续氧化后的雾状缺陷。
    右侧是经过周师傅‘预氧化钝化’后再走标准流程的硅片,残留物峰消失,表面状态图谱与进口基准硅片高度一致!更重要的是,”他调出另一组数据。
    “我们对后续形成的栅氧层进行了高分辨率电镜扫描和C-V特性测试,其厚度均匀性、界面态密度、击穿电压等关键参数,完全落在设计规格之内。
    甚至比之前‘混血线’上直接按手册微调做出来的还要稳定!‘预钝化’引入的薄层非晶氧化层,在后续标准高温氧化过程中被完全‘消化’并整合进了高质量热氧化层!
    这不是隐患,这是针对特定材料缺陷的必要补偿!”
    数据,冰冷而有力。陈哲看着屏幕上那清晰的对比曲线和达标的关键参数,一时语塞。
    他身后的海归工程师们也陷入了沉默,有人开始快速翻阅自己带来的文献,试图寻找反驳的依据,却发现手册里确实没有涵盖这种“中国特色”的材料偏差。
    秦浩将这一切看在眼里,适时地敲了敲桌子,声音沉稳有力:“争论暂停。陈工的担忧代表了严谨的工程思维,周师傅的经验和王工的数据则提供了现实的解决方案。
    现在,目标只有一个:为示范线制定出既能保证质量、又能稳定量产、且能兼容国产材料特性的清洗预氧化工艺规范!这规范,必须建立在科学验证的基础上!”
    他拿起王院士寄来的《非标工艺适配案例集》和东海厂自己初步整理的“适配知识库”草稿:“王院士团队提供的,是全国各地同行在困境中摸索出的‘钥匙’。
    我们东海的‘预氧化钝化’,就是其中一把钥匙的具体应用!但这把钥匙能不能开示范线上所有批次的锁?能不能适应未来可能更换的国产硅片供应商?
    能不能在量产线上稳定运行?需要更系统、更深入的工作!”
    秦浩的目光扫过全场,带着强大的凝聚力和不容置疑的决心:“攻关组分成三个小组:
    第一组,陈工牵头!任务:深入分析‘预氧化钝化’对后续所有关键工艺步骤(尤其是栅氧化、扩散、退火)的潜在影响机理。
    建立量化模型!评估边界条件!找出可能的风险点和控制窗口!理论依据必须夯实!
    第二组,周师傅、王工牵头!任务:基于国产硅片偏差数据库和东海经验,设计覆盖不同厂家、不同批次国产硅片的‘预钝化’参数适配矩阵。
    在实验线上进行大规模、多批次的验证实验!把‘看菜下饭’的经验,变成可量化的‘菜谱’!我要看到不同‘菜’(硅片特性)该用多少‘米’(钝化液浓度)、‘火候’(温度时间)的数据支撑!
    第三组,技术部骨干负责!任务:开发简易快速的硅片表面状态在线/离线检测方法。
    目标是产线操作工能在几分钟内判断这批硅片需不需要‘预钝化’、该用哪套参数!把复杂的材料科学问题,简化成产线上可执行的判断步骤!
    所有数据、模型、检测方法,最终要融合成一个东西——我们示范线自己的、带有‘东海兼容性引擎’的清洗预氧化工艺规范!”
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